Ținte de pulverizare cu titan cu puritate ridicată

Ținte de pulverizare cu titan cu puritate ridicatăsunt surse de pulverizare care formează diferite pelicule subțiri funcționale pe substraturi prin pulverizare cu magnetron, placare cu ioni multi-arc sau alte tipuri de sisteme de acoperire în condiții adecvate de proces. Mai simplu spus, materialul țintă este materialul țintă bombardat de particule încărcate de mare viteză.

Este folosit în armele cu laser de înaltă energie. Când laserele cu densități de putere diferite, forme de undă de ieșire diferite și lungimi de undă diferite interacționează cu ținte diferite, vor produce distrugeri și daune diferite. efect. De exemplu: acoperirea prin pulverizare cu magnetron de evaporare este acoperirea prin evaporare de încălzire, film de aluminiu și așa mai departe. Prin înlocuirea diferitelor materiale țintă (cum ar fi ținte de aluminiu, cupru, oțel inoxidabil, titan, nichel etc.), pot fi obținute diferite sisteme de film (cum ar fi pelicule superdure, rezistente la uzură, aliaje anticorozive etc.).

Parametrii

Caracteristici

1. Greutate redusă

2. Rezistență specifică ridicată

3. Rezistenta la coroziune

4. Rezistență la temperaturi ridicate și scăzute

Aplicații

★Constructii navale ★Placare electrolitică ★Aerospațială ★Industrie chimică ★Echipamente medicale

Detalii

Fabricat din materii prime de înaltă calitate, rezistent la uzură și coroziune, utilizare pe termen lung

Fără crăpături pe suprafață, fără pete de ulei, suprafață laterală netedă și curată

Specificații complete, tăiere arbitrară, suport personalizare non-standard

Puritatea materialului țintă are un efect mare asupra performanței filmului. Puritatea este unul dintre indicatorii de performanță vizați.

Puritate

Puritatea țintei este unul dintre principalii indicatori de performanță ai țintei, deoarece puritatea țintei afectează foarte mult performanța filmului. Cu toate acestea, în aplicațiile reale, cerințele pentru puritatea materialului țintă nu sunt aceleași. De exemplu, odată cu dezvoltarea rapidă a industriei microelectronice Dimensiunea plachetei de siliciu a fost extinsă de la 6 ", 8" la 12 ", lățimea cablajului a fost redusă de la 0.5 um la 0. 25 um, 0,18 um și 0,13 um. Anterior, puritatea țintă era de 99,995 la sută.

Conținut de impurități

Sursa principală a filmului depus este oxigenul și umiditatea solidelor și porilor țintă. Țintele pentru diverse aplicații au cerințe diferite pentru diferite niveluri de impurități. De exemplu, țintele de aluminiu pur și aliaje de aluminiu utilizate în industria semiconductoarelor au cerințe speciale pentru conținutul de metale alcaline și conținutul de elemente radioactive.

Densitate

Pentru a reduce porii solidelor țintă și pentru a îmbunătăți performanța filmelor pulverizate, țintele trebuie de obicei să fie mai dense. Densitatea țintă afectează nu numai viteza de pulverizare, ci și proprietățile electrice și optice ale filmului. Cu cât densitatea țintei este mai mare, cu atât performanța filmului este mai bună. În plus, atunci când densitatea și intensitatea țintei sunt crescute, ținta poate rezista la stresul termic în timpul pulverizării. Densitatea este unul dintre indicatorii de performanță vizați.

Dimensiunea boabelor și distribuția mărimii

De obicei, ținta este policristalină, iar dimensiunea particulelor poate fi de ordinul micrometrilor la milimetri. În cazul aceleiași ținte, viteza de pulverizare a țintei cu granulație fină este mai rapidă decât viteza de pulverizare a țintei cu granulație grosieră, în timp ce depunerea prin pulverizare a țintei de dimensiune mai mică a particulelor (distribuție uniformă) are o distribuție uniformă a grosimii (uniformă). . Distributie.

Dacă sunteți interesat deținte de pulverizare cu titan cu puritate ridicată, nu ezitați să ne contactați:

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Pagina principala:http://www.toptitech.com

Tag-uri populare: ținte de pulverizare cu titan cu puritate ridicată, China, furnizori, producători, personalizate, utilizare, listă de prețuri, de vânzare, în stoc, probă gratuită, material poros