Cartuș filtru de titan poros 1um pentru procesare umedă a semiconductorilor

Cartușul filtru de titan poros de 1um pentru procesarea umedă a semiconductorilor asigură o retenție nominală-absolută a particulelor în medii chimice agresive în care membranele polimerice se umflă sau se degradează. Fabricat din pulbere industrială de titan cu o puritate mai mare sau egală cu 99,4%, prin presare izostatică la rece și sinterizare în vid la temperatură înaltă, acest filtru sinterizat cu pulbere metalică realizează o structură microporoasă uniformă, cu o porozitate de 30-40% și o distribuție a dimensiunii porilor înguste. În filtrarea de decarbonizare a producției farmaceutice API, filtrul de titan sinterizat de 1 μm captează reziduurile fine de cărbune activ și finele de catalizator din lichidele-mamă cu vâscozitate înaltă-, cu o capacitate de spălare reutilizabilă care prelungește durata de viață de mai multe ori dincolo de alternativele cu membrane. Fabricarea semiconductoarelor în proces umed-integrează filtre sinterizate cu pulbere de titan de 1um în liniile de livrare chimică pentru fluxurile SC-1, SC{-2, 49% HF și HNO₃, unde substratul de titan rezistă la stropirea din mediile bogate în clorură care corodează oțelul inoxidabil. Evaluarea de precizie de 1um elimină particulele submicronice care conțin siliciu și contaminanții metalici fără a sparge particule, menținând puritatea filtratului necesară pentru procesarea plachetelor la scară nanometrică.

Aplicațiile cu bucle de tratare a apei de înaltă puritate implementează un cartuş de filtru de titan poros de 1um pentru procesarea umedă a semiconductorilor ca filtrare finală de securitate înaintea sistemelor de ultrafiltrare și EDI, în care elementul sinterizat cu pulbere de titan rezistă sterilizării periodice cu ozon și aburului-în{{3}cicluri de până la 280 de grade în condiții de mediu. Spre deosebire de filtrele de profunzime din polipropilenă sau cartușele cu membrană PTFE care se înmoaie sau se delaminează sub ciclul termic, matricea de titan-sinterizată în vid își păstrează integritatea dimensională în intervalul de pH 1-14 și rezistă la presiuni diferențiale de până la 5,0 bari fără colapsul structurii porilor. Buclele de lustruire a suspensiilor CMP din fabricile avansate folosesc cartușe de filtru de titan de 1 μm post{13}}etape de adsorbție a rășinii pentru a capta particulele abrazive supradimensionate aglomerate, păstrând în același timp distribuția proiectată a dimensiunii particulelor a suspensiilor de silice coloidal sau ceria. Caracteristica de non-vărsare a particulelor și regenerabilitatea online prin spălare inversă sau curățare cu ultrasunete permit reutilizarea repetată, reducând frecvența de înlocuire a filtrului și costurile de operare în operațiunile continue pe bancul umed cu semiconductori.

Evaluare de filtrare de precizie – Cartușul filtru de titan poros de 1um asigură o retenție absolută-a particulelor în liniile umede de procesare a semiconductoarelor, îndepărtând reziduurile de siliciu submicronice, contaminanții metalici și particulele asemănătoare gel- din chimicale agresive, inclusiv HF, HNO₃, SC-1 și SC-2 fără mediu.

Rezistență la coroziune în intervale extreme de pH - Fabricat din pulbere de titan cu o puritate mai mare sau egală cu 99,4%-prin sinterizare în vid, acest cartus de filtru din titan sinterizat rezistă în medii cu pH 1–14, rezistând la pitting și la atacul clorurii care degradează rapid filtrele chimice din oțel inoxidabil sau Hastelloy din sistemele de distribuție westelloy.

Stabilitate termică ridicată pentru ciclurile DIW și SIP fierbinți – Filtrul sinterizat cu pulbere de titan suportă o funcționare continuă la 280 de grade în condiții umede, susținând sterilizarea cu abur-in-la loc (SIP) și clătirea cu apă fierbinte deionizată fără a înmuia, delaminarea sau scurgerea materialelor extractibile cu membrană din polipropilenă sau cartuşelor din polipropilenă.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0,5μm cauzează defecte fatale ale dispozitivului.

Regenerabilitate excelentă la spălare în contra - Cartușul filtru de titan poros de 1um acceptă spălarea inversă online, curățarea cu ultrasunete și regenerarea acidului, eliminând solidele capturate și restabilind debitele inițiale pe zeci de cicluri de reutilizare, reducând semnificativ frecvența de înlocuire a cartușului și costurile de operare în fabricile cu volum mare-.

Toleranță ridicată la presiune diferențială – Matricea de titan{0}}sinterizată în vid menține integritatea structurii porilor la presiuni diferențiale de până la 5,0 bari, depășind filtrele cu membrană care se prăbușesc sau se rup în timpul fluxurilor de supratensiune sau evenimentelor de înfundare în echipamentele de procesare umedă a semiconductoarelor.

Linii de distribuție chimică de puritate înaltă-în fabricile de napolitane – Instalate în carcase de filtrare în punctul-de-utilizare (POU) pentru fluxuri de HF, HNO₃, NH₄OH, H₂SO₄ și HCl 49%, filtrul de titan sinterizat de 1um înainte de a îndepărta cartușul de siliciu sub formă de particule și particulele metalice. procesoare-wafer unice.

Bucle de recirculare cu apă deionizată ozonizată (DIO₃) – Aplicată ca filtrare de securitate în instrumentele de curățare post-CMP și de îndepărtare a rezistenței fotorezistente. Cartușul de titan poros 1um rezistă la concentrații de ozon de până la 20 ppm și la expunerea continuă la UV, unde filtrele din polipropilenă fragilizează și membranele PTFE își pierd integritatea mecanică.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) păstrând în același timp distribuția nativă a dimensiunii particulelor și potențialul zeta, menținând o rată de îndepărtare constantă și în-neuniformitatea-plachetei (WIWNU).

Post-Filtrarea apei cu epurator cu perii CMP – Instalat în liniile de apă deionizată care alimentează perii PVA pentru a recaptura particulele abrazive reziduale și ionii de cupru după lustruirea plachetelor. Evaluarea absolută de 1um previne microzgârieturile pe suprafețele de cupru și cu dielectric cu -k scăzute în timpul contactului periei.

Filtru de securitate final cu buclă de lustruire cu apă ultrapură (UPW) – Poziționat înaintea supapelor de punct{0}}de-utilizare (POU) în stațiile de gravare umedă și de clătire. Cartușul de filtru cu pulbere de titan funcționează în UPW fierbinte (80 de grade) și în cicluri periodice de sterilizare cu abur, fără a sparge particule, menținând controlul bacteriilor și numărul de particule sub cerințele clasei 1.

Băi de placare cu nichel și cobalt fără electricitate pentru straturi de barieră/sămânță – Integrate în plăcile de purificare a băii de placare pentru a îndepărta contaminarea cu particule de stabilizatori și agenți de complexare. Matricea de titan rezistentă la coroziune-funcționează la temperaturi ridicate (70-90 grade ) și pH alcalin, fără fragilizare cu hidrogen sau contaminare a băii.

Tel: 0917-3873009

Telefon: +86 18992731201

E-mail:zhangjixia@bjygti.com

Fax: 0917-3873009

Adresă: nr. 195, Gaoxin Avenue, High-Zona de dezvoltare tehnologică, orașul Baoji, Shaanxi, China

Whatsapp: +86 18992731201

Tag-uri populare: Cartuș filtru de titan poros 1um pentru procesarea umedă a semiconductorilor, China, furnizori, producători, personalizat, utilizare, listă de prețuri, de vânzare, în stoc, probă gratuită, material poros