Inel de purificare a gazului de titan poros sinterizat

Managementul atmosferei în camerele de proces cu semiconductor
Îndepărtează în mod activ urmele de umiditate și oxigen din gazele ambientale din instrumentele CVD și de gravare, susținând un mediu de procesare ultra-pur pentru a îmbunătăți randamentul și performanța de fabricare a cipurilor.

Rafinarea fluxului de gaz pentru sistemele de acoperire cu peliculă subțire{0}
Integrat în liniile de admisie a gazului ale echipamentelor de evaporare și pulverizare cu fascicul e-, crește puritatea gazului de intrare pentru a garanta uniformitatea, densitatea și aderența superioare a acoperirii.

Condiționare ultra-pură a gazului purtător pentru instrumente analitice
Servește ca etapă finală de purificare pentru gazele purtătoare în sistemele GC și MS, eliminând interferența de fundal pentru a asigura cea mai mare acuratețe a măsurătorilor și integritatea datelor.

Purificarea gazelor de protecție în aplicații de sudare de precizie
Purifică argonul și alte gaze de protecție utilizate în sudarea cu laser și cu fascicul e-, prevenind oxidarea la temperatură înaltă- a bazinului de topire pentru a obține suduri impecabile, de-integritate ridicată.

Obținerea Urmei de Gaz în configurații avansate de cercetare
Implementat în sistemele de sincrotron și accelerator de particule pentru a adsorbi moleculele degajate din componentele interne, ajutând la atingerea și conservarea condițiilor de vid-extrem.